点击图片查看原图“管式CVD化学气相沉积设备 CVD100 -泰科诺”参数说明
| 是否有现货： | 否 | 认证： | IS0:9001 |
| 加工定制： | 是 | 品牌： | 北京泰科诺科技有限公司 |
| 镀种： | 真空镀膜 | 适用范围： | 光电子、半导体、石墨烯、微波器件等薄膜 |
| 产品别名： | 管式化学气相沉积设备 | 电镀电源： | 双脉冲电源 |
| 型号： | CVD100 | 规格： | Φ100×L1000mm |
| 商标： | 泰科诺科技 | 包装： | 木箱 |
| 产量： | 20 |
“管式CVD化学气相沉积设备 CVD100 -泰科诺”详细介绍
一、产品概述
1、适用范围：适合于各单位实验室、高等院校实验室、教学等的项目科研、产品中试之用。
2、产品优点及特点：该设备是利用有机金属源化学气相沉积技术，石英管生长室清洁无污染；4～6路气体控制合理；加热温度高控温准确且均匀，加热温度最高1000℃。高真空环境，兼具真空退火炉功能。
3、主要用途：可制备用于光电子、半导体、石墨烯、微波器件等高纯薄膜。
二、技术参数
| 型号 | CVD100 |
| 真空腔室结构 | 高纯石英管 |
| 真空腔室尺寸 | Φ100×L1000mm |
| 衬底温度 | 室温～1000℃，可调可控 |
| 电源 | DC |
| 控制方式 | PLC控制 |
| 占地面积 | 主机L1620×W1060×H1900mm |
| 总功率 | ≥6KW |
北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来,一直专注于真空设备的研发、制造，集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的高新技术企业。
公司在真空镀膜设备和真空应用设备的研发和制造上处于行业领先地位，如联合高校、中科院所共同研发的粉体颗粒表面镀膜设备、异形体表面镀膜设备、热丝CVD金刚石生长设备、真空升华提纯设备等，其中有多种产品填补国内空白。公司自主生产的真空产品共有八大类，涵盖低真空、高真空、超高真空的上百品种，广泛应用于大专院校、科研院所的教学、实验；企业的产品研发、产品中试、生产。产品已经覆盖全国的28个省市，有超过1000台设备在运行，而且远销美国、土耳其、哈萨克斯坦等国，深受用户的好评。